【三星已经部署了首台高数值孔径High-NA极紫外光刻设备】《科创板日报》7日讯，三星于今年3月安装了首台高数值孔径（High-NA）EUV（极紫外光刻）设备，用于1.4纳米芯片的生产。三星在开发并最终量产2纳米以下晶圆时，
【三星已经部署了首台高数值孔径High-NA极紫外光刻设备】《科创板日报》7日讯，三星于今年3月安装了首台高数值孔径（High-NA）EUV（极紫外光刻）设备，用于1.4纳米芯片的生产。三星在开发并最终量产2纳米以下晶圆时，从ASML采购高NA EUV设备是一项昂贵的投资，每台设备约需4亿美元。
