10月29日晚间，国产半导体设备厂商中微公司发布了2025年第三季度报告。财报显示，中微公司2025年前三季度营业收入为80.63亿元，同比增长约46.40%；归母净利润为12.11亿元，同比增长32.66%。

　　其中第三季度营收为31.02亿元，同比增长50.62%；归母净利润为5.05亿元，同比增长27.50%。

　　收入按产品来看，前三季度刻蚀设备收入61.01亿元，同比增长约38.26%；LPCVD和ALD等薄膜设备收入4.03亿元，同比增长约1332.69%。

　　中微公司表示，公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件的超高深宽比刻蚀工艺实现大规模量产。

　　其中CCP方面，中微公司用于关键刻蚀工艺的单反应台介质刻蚀产品保持高速增长，60：1超高深宽比介质刻蚀设备成为国内标配设备，量产指标稳步提升，下一代90：1超高深宽比介质刻蚀设备即将进入市场。ICP方面，中微公司适用于下一代逻辑和存储客户用ICP刻蚀设备和化学气相刻蚀设备开发取得了良好进展。加工的精度和重复性已达到单原子水平。

　　中微公司为先进存储器件和逻辑器件开发的LPCVD、ALD等多款薄膜设备已经顺利进入市场，据称其设备性能达到国际领先水平，薄膜设备的覆盖率不断增加。

　　中微公司硅和锗硅外延EPI设备已顺利运付客户端进行量产验证，并且获得客户高度认可。在泛半导体设备领域，中微公司正在开发更多化合物半导体外延设备，已陆续付运至客户端开展生产验证。