根据天眼查APP数据显示中科三环（000970）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种制备钕铁硼磁体的方法”，专利申请号为CN202311459662.0，授权日为2025年9月26日。
专利摘要：本公开涉及一种钕铁硼磁体的喷涂方法，该方法包括将钕铁硼基体置于转筒空腔内，使转筒以3～10rpm转速绕轴向转动，转筒包括由筒底和筒壁围成的具有开口的转筒空腔，转筒空腔的开口方向朝斜上，转筒的轴向相对于水平面倾斜设置，转筒的轴向与水平面之间的夹角α为30°～50°，筒壁具有多个开孔，钕铁硼基体在转筒空腔内形成的堆积体的体积占转筒空腔体积的5～25％。本公开的方法能够有效地解决在喷涂过程中的磁体粘片而导致浆料附着不均匀的问题，采用该系统制备的钕铁硼磁体的磁性能一致性较优。
今年以来中科三环新获得专利授权11个，较去年同期减少了8.33%。结合公司2025年中报财务数据，今年上半年公司在研发方面投入了5849.1万元，同比减24.72%。
